Hversu mikið veistu um títan tómarúmhúðunarmarkmið?

Aug 07, 2025

Títan markmið tómarúmhúðun Upplýsingar um ferli:

A. Meginreglur um tómarúmhúð og sputtering tækni

Grunnreglan um sputtering húðunartækni

Sputtering húðun er tækni sem myndar þunnt filmu með því að sprengja yfirborð markefnisins með jónum, sem veldur því að atóm markefnisins losnar og setur á yfirborð undirlagsins. Þessi aðferð er orðin mikilvæg leið til iðnaðarhúðar vegna kostanna eins og mikillar einsleitni kvikmyndalagsins og breitt notkunarsvið. Titanium markmið gegna meginhlutverki í sputteringaferlinu vegna einstaka eðlisfræðilegra og efnafræðilegra eiginleika þeirra.

2.. Hlutverk títanamarkmiða í magnetron sputtering

Magnetron sputtering notar segulsvið til að takmarka rafeindir til að mynda hátt - þéttleikaplasma og auka þannig sprengjuvirkni jóna. Kosturinn við þessa tækni liggur í getu hennar til að beita húðun við tiltölulega lágt hitastig, sem gerir það mjög hentugt til að vinna úr viðkvæmum hvarfefnum eins og plasti og gleri. Meðan á þessu ferli stendur mynda títanatóm sem gefin eru af títanmarkmiðinu þéttri filmu á yfirborð undirlagsins, sem er notað til andstæðingur - endurskinshúðunar eða tæringar - ónæmra húðun.

3. Hlutverk títan markmiða í beinum straumi

DC sputtering er hentugur til að sputtering hátt - leiðni málmmarkmið, svo sem títanmarkmið. Vinnandi meginregla þess er tiltölulega einföld, en hreinleiki markefnisins er lykilatriði. Hátt - Purity Titanium markmið geta dregið úr vandamálum við losun boga meðan á sputterunarferlinu stendur og þar með bætt gæði lagsins.

4.. Hlutverk títan markmiða í útvarpsbylgju

Útvarpsbylgjur notar til skiptisstraums til að koma í veg fyrir uppsöfnun hleðslna á mark yfirborði og hentar til að vinna úr einangrandi markmiðum eins og títan efnasamböndum (eins og Tio₂). Aðalhlutverk títanamarkmiða í RF sputtering er að veita efnafræðilega óvirkar og mjög stöðugar jónheimildir, sem eru mikið notaðar við framleiðslu á sjónhúðun og keramik virkum kvikmyndum.