Mikil hreinleika títan sputtering markmið
video
Mikil hreinleika títan sputtering markmið

Mikil hreinleika títan sputtering markmið

Heiti hlutar: Mikið hreinleika títan sputtering markmið
Efni: Pure Titanium Grade1, 2. bekk
Lögun: Round Target, Square Target
Hreinleiki: 99,9% 3n, 4n, 4n5
Ljúka: CNC vélað
Hringdu í okkur
Lýsing

Vörulýsing

 

Kynning á miklum hreinleika títan sputtering markmiðum

 

Mikil hreinleika títan sputtering markmið eru sputtering húðunarmarkmið úr háu - hreinleika títan eða títanblöndur með hreinleika 99,9% til 99.9999%.

Þau eru aðallega notuð í hálfleiðara framleiðslu, flatskjám, skreytingarhúð og sogsvæðum tómarúmbúnaðar.

Kjarnaárangursvísar þess fela í sér hreinleika, þéttleika (4.506-4,51 g/cm³), kornastærð (minna en eða jafnt og 50μm), og óhreinindi, sem verða að uppfylla innlenda og alþjóðlega staðla eins og ASTM og ISO.

 

Títanamarkmið eru notuð í samþættum hringrásum til að setja hindrunarlög eins og títan - kísilefnasambönd og títan - köfnunarefnissambönd, með hreinleika 4N5-6N til að uppfylla kröfur 0,18μm og hreinsaðri ferli.

 

Á sviði skreytingarinnar er hægt að nota magnetron sputtering til að útbúa ýmis lita kvikmyndalög og tómarúmhúðun er bæði með mikla viðloðun og tæringarþol.

Að auki hefur títan markmiðum verið beitt í atburðarásum eins og læknisígræðslum og geimhúðun vegna þess að þeir eru léttir og lífsamhæfir.

Vöruupplýsingarnar ná yfir þvermál á bilinu 50 til 400 mm og þykkt frá 3 til 28mm og styðja sérsniðnar kröfur eins og bindandi kopar bakmark.

 

Helstu kröfur um frammistöðu í miklum hreinleika títan sputtering

 

1) Hreinleiki

Hins vegar, í hagnýtum forritum, eru hreinleikakröfur fyrir markefni einnig mismunandi. Sem dæmi má nefna að með örri þróun örefnisgeirans, hefur stærð sílikonþurrkanna þróast úr 6 „og 8“ í 12 “, en breidd raflögn hefur minnkað úr 0,5um í 0,25um, 0,18um og jafnvel 0,13um. Áður, markefni hreinleika 99,995 gæti uppfyllt vinnsluþörfina af 0,35 irics. 0.18UM línur eru 99.999% eða jafnvel 99.9999%.

 

2) óhreinindi innihald

Óheiðarleiki í föstu markefninu og súrefni og vatnsgufu í svitaholunum eru helstu mengun mengunar fyrir filmu. Kröfur um mismunandi óhreinindi innihald markefna til mismunandi notkunar eru einnig mismunandi. Sem dæmi má nefna að hreint ál- og álmarkmið sem notuð eru í hálfleiðaraiðnaðinum hafa sérstakar kröfur um innihald alkalískra málma og geislavirkra þátta.

 

3) Þéttleiki

Til að draga úr porosity í traustu markefninu og auka afköst sputtered kvikmyndarinnar er venjulega krafist þess að markefnið hafi tiltölulega mikla þéttleika. Þéttleiki markefnisins hefur ekki aðeins áhrif á sputteringhraðann, heldur hefur það einnig áhrif á raf- og sjón eiginleika myndarinnar. Því hærri sem þéttleiki markefnisins er, því betri árangur myndarinnar. Að auki, með því að auka þéttleika og styrk markefnisins gerir það kleift að standast hitauppstreymi betur meðan á sputterunarferlinu stendur. Þéttleiki er einnig einn af lykilárangursvísum markefna.

 

4) Kornastærð og dreifingu kornastærðar

Venjulega hefur markefnið fjölkristallaða uppbyggingu og kornastærðin getur verið allt frá míkrómetrum til millimetra. Fyrir sama markmiðsefni er sputtering hlutfall marks með fínkornum hraðari en markmiðið með gróft korn. Þykktardreifing kvikmyndanna sem sett eru með miða á miða með minni mun á kornastærð (samræmd dreifing) er einsleitari.

 

Fleiri myndir af Títan -sputtering markmiðum með mikla hreinleika

 

product-500-500
Mikil hreinleika títan sputtering markmið
product-500-500
Vélað títanmarkmið til sölu
product-500-500
Títan markmið með mikla hreinleika
product-500-500
Kringlótt títanarmarkmið í heildsöluverðlagningu

Myndun og vélræn vinnsla með miklum hreinleika títan sputtering markmiðum

 

A. Rúlla og smíða ferli Títan markmiðsefnis

Heitt veltingur og kaldur veltingur er notaður til að vinna úr títanefnum í nauðsynlegar stærðir og form.

Að smíða ferli eykur vélrænan styrk og innri einsleitni markefnisins með því að bæta kornbyggingu efnisins.

 

B. Yfirborðsfægja og meðferð

Yfirborðsfæging tryggir að markefnið hefur gott yfirborðsáferð og dregur úr ójöfnuð meðan á sputter stendur.

Yfirborðsmeðferð (svo sem að fjarlægja oxíðskala og fínn mala) getur aukið slétt losun sputtering agna og þar með bætt gæði lagsins.

 

Gæðaskoðun og stjórnun á mikilli hreinleika títan sputtering markmiðum

 

1. hreinleikaprófun á markefni

Litrófsgreiningartæki eru notuð til að greina óhreinindi íhluta (svo sem köfnunarefni, súrefni, járn osfrv.) Í títanum markefnum til að tryggja að hreinleiki þeirra nái yfir 99,9%.

 

2.. Líkamleg færibreytu uppgötvun

Þéttleiki próf: Þéttleiki markefnisins er mældur með vatnsflutningsaðferðinni til að greina hvort það eru svitahola inni.

Yfirborðs ójöfnunarpróf: Metið yfirborðs flatleika markefnisins með því að nota leysir truflunarmælir.

Styrkpróf: Gakktu úr skugga um að vélrænir eiginleikar markefnisins uppfylli kröfur um sputtering með togprófum og hörkuprófum.

 

um flutnings sulition af miklum hreinleika títan sputtering markmiðum

 

 

Við getum sent vörurnar út með:

A. eftir International Express (eins og DHL, UPS, FedEx);

B. með flugflutningi;

C. með flutningi sjávar/sjávar.

product-494-258

 

maq per Qat: Mikil hreinleiki títan sputtering markmið, Kína High Purity Titanium Sputtering Markmið framleiðendur, birgjar, verksmiðja

Hringdu í okkur

(0/10)

clearall